江苏艾匹克取得硅外延设备进气口装置专利,提高硅外延设备的硅外延效果

金融界 2025 年 4 月 28 日消息,国家知识产权局信息显示,江苏艾匹克半导体设备有限公司取得一项名为“一种硅外延设备的进气口装置”的专利,授权公告号 CN222795790U,申请日期为 2024 年 4 月。

专利摘要显示,本实用新型涉及一种硅外延设备的进气口装置,包括硅外延设备本体,所述硅外延设备本体的顶部设置有进气机构,所述硅外延设备本体的外部设置有排污组件,所述进气机构包括与硅外延设备本体固定连接的箱体,所述箱体的内部设置有过滤仓和干燥仓,所述箱体的固定连接有进气扇和冷风管。该硅外延设备的进气口装置,通过设置进气机构,为硅外延设备的进气口装置增加了过滤和干燥功能,方便对气体中的杂质和进行过滤,减少冷风中的水汽,提高硅外延设备的硅外延效果,解决了通过进风管道进行进气,不具备过滤功能,在硅外延设备的进气过程中,不方便对气体进行过滤和干燥,容易造成杂质和水汽进入硅外延设备的内部,影响硅外延设备的硅外延效果的问题。

天眼查资料显示,江苏艾匹克半导体设备有限公司,成立于2017年,位于无锡市,是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本1500万人民币。通过天眼查大数据分析,江苏艾匹克半导体设备有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目21次,专利信息52条,此外企业还拥有行政许可5个。

本文源自:金融界

作者:情报员

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